20年卒 技術系
技術系
No.67598 本選考 / エントリーシート（ES）のエントリーシート
| 最終選考結果 | 1次選考通過 |
|---|
応募理由をご記入ください。（全角200文字以内）
応募理由は、独自の技術を組合わせ、新規材料開発を進める貴社に惹かれたからである。以前、私は新規材料開発のためには新しい原料が必要であるという偏見を持っていた。しかし実際に貴社の研究所見学の際に、貴社が培ってきた独自の銀ナノ粒子の技術などを組み合わせ、遮熱フィルムなど多くの新規材料を開発している...
希望する仕事についてご記入ください。（全角200文字以内）
私は大学院で◯◯を利用した◯◯◯◯の研究に従事してきた。そのため表面化学を生かした次世代材料開発を行いたいと考えている。貴社は、次世代デバイスとして注目されている有機ELディスプレイなどに欠かせない高機能フィルムを開発してきた。高機能フィルムの開発において、フィルムに表面加工を施し機能性を付与...
貴方が過去、努力して達成したと思うことは何ですか？（研究についてでも、それ以外でも構いません。貴方の取った行動が判るようにお書きください。）（全角300文字以内）
私が努力によって達成した経験は、プログラミング技術の習得である。研究を進める上で、プログラミング言語の習得が必要だった。しかし私はプログラミング言語に触れたことがなく、強い苦手意識を持っていた。取り組み当初は内容の理解さえままならず困難に直面してばかりだった。しかしそのたびに、文献調査や、情報...
あなたの長所をご記入ください。（全角100文字以内）
私の強みは計画力である。◯◯部において、学内◯◯大会の運営を行った。運営では◯◯の借用手続きなど数多くの業務に携わる必要があった。そのため私は半年以上前から準備を進め大会を無事成功させた。
あなたの短所をご記入ください。（全角100文字以内）
失敗を過剰に恐れることである。現状は失敗した際の対策を考え、心配を和らげるよう心がけている。しかしその性格ゆえ準備を綿密に行う習慣がついた。この性格のいい面は活かし悪い面は改善していきたい。
研究内容（全角300文字以内）
我々の生活を支える電子機器の性能はデバイス素子の小型化により達成されている。近年次世代の微小デバイス素子の開発として、単分子接合が注目を浴びている。単分子接合とは、ナノレベルで近接させた二つの電極間に単一分子が架橋した系である。架橋分子の機能性を利用することで単分子接合は1分子サイズのデバイス...
貴方の研究活動は、貴方の研究領域にどのような進歩をもたらしましたか？またその進歩のために、貴方はどのような形で貢献しましたか？（全角200文字以内）
私の研究活動の成果は、◯◯の安定性を◯◯する手法を開発したことである。単分子接合は、究極に微小な電気素子として期待されているが、その安定性を◯◯する手法が未だ確立されていないことが課題であった。そこで私は、数式に基づくアルゴリズムを提案し、単分子接合の形成時間を統計的に◯◯する手法を開発した。...
基本的にONE CAREER事務局でES設問/選考フローの漏れがないことを確認済みのコンテンツですが、一部チェックできなったものはユーザーからの申告に基づいたコンテンツです。
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