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インターンシップ選考
大学非公開 | 理系
公開日:2026/06/26
エントリーシート(ES)
最終選考結果 1次選考通過

研究内容の詳細をご記入ください。(400文字以下)

◯◯を用いて、◯◯における◯◯の広帯域化に取り組んでいる。◯◯はスペクトルが等間隔に並ぶ信号であり、高精度センシングへの応用が期待されている。特に◯◯は、多くの分子が固有の吸収特性を示すため、同帯域での周波数コム生成はセンシング応用上不可欠である。従来の生成手法では、冷却機構や大型の光学系を必...

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学生時代に最も打ち込んだことを記入してください。(400文字以下)

◯◯のアルバイトで、業務フローの刷新による閉店作業時間の短縮に注力した。勤務先の閉店作業は3人体制だが、入社当初、私の担当分は店舗平均より20分遅れていた。原因を分析したところ、非効率的な手順の常態化や担当間の連携不足に課題があると考え、改善を決意した。まず、洗浄機の稼働時間等の「手隙の時間」...

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自己PRをご記入ください(長所と短所を含む)(400文字以下)

課題に粘り強く取り組むことが出来る。◯◯のアルバイトでは、独り立ちに必要なバリスタ認定試験に挑戦した。しかし、複数のドリンクを並行して作成する連続オペレーションへの対応ができず、5回連続で不合格となった。そこで原因を分析し、ドリンク作成そのものではなく、複数作業の切り替えと膨大なレシピの記憶に...

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志望動機をご記入ください。(400文字以下)

最先端の半導体製造に携わり、エンジニア同士で連携して課題解決に取り組む過程を学ぶことで、半導体技術者としての将来像を具体化するためだ。近年、AIや通信技術の発展に伴い、半導体の重要性が高まっている。このことから半導体は、社会を支える基盤技術であると考えており、本業界を志望している。中でも貴社は...

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ワンキャリアでは、Japan Advanced Semiconductor Manufacturingの2028年卒のインターンシップ選考で実際に通過したエントリーシート(ES)の例文集や志望動機の回答例を掲載しています。さらに、Japan Advanced Semiconductor ManufacturingのESの通過率を上げるために深く選考対策したい方に向けて「選考ステップ」では自己PRや学生時代に頑張ったことに含めるべき、重要な評価基準とES提出時の注意点を解説しています。Japan Advanced Semiconductor ManufacturingのES・書類提出前や採用担当者と会う前に、高倍率な場合でも通過するようお役立てください。また「合格の秘訣」では選考全体を通じたポイントも解説しており、メーカー業界の分析やJapan Advanced Semiconductor Manufacturingの企業研究をする際に役立ちます。
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